美國限制我國芯片技術(shù)發(fā)展的手段總體上分為兩種，一是設(shè)計，二是制造。在制造方面美國主要禁止了使用美國技術(shù)的芯片代工廠為我國部分企業(yè)生產(chǎn)7nm及以下工藝的芯片，部分企業(yè)的14nm芯片生產(chǎn)也受到限制。而在CPU設(shè)計方面，美國則有更加豐富的限制手段，比如CPU指令集授權(quán)、IP授權(quán)、專利壁壘、EDA工具等等，國內(nèi)部分企業(yè)和機(jī)構(gòu)已經(jīng)被禁止使用美國的EDA工具軟件。

　　EDA工具軟件可大致可分為芯片設(shè)計輔助軟件、可編程芯片輔助設(shè)計軟件、系統(tǒng)設(shè)計輔助軟件等三類。國產(chǎn)的EDA工具軟件由于起步較晚，技術(shù)積累和資金投入不足等原因，一直落后于國際水平，但近幾年隨著對這類基礎(chǔ)軟件的投入加大，技術(shù)人員也在危機(jī)感、使命感的驅(qū)動下加班加點研究，使國產(chǎn)的EDA軟件與世界先進(jìn)水平正在迅速拉近。

華大九天的EDA設(shè)計工具

4月25日，第四屆數(shù)字中國建設(shè)峰會開幕，在“國有企業(yè)數(shù)字化轉(zhuǎn)型論壇”上，中國電子華大九天憑借多年的EDA技術(shù)積累，同時結(jié)合人工智能技術(shù)，最新發(fā)布華大九天EDA工具系統(tǒng)V2021.3版本。該版本突破了數(shù)十項關(guān)鍵技術(shù)，優(yōu)化了數(shù)百個復(fù)雜算法，產(chǎn)品的功能、性能、容量及可靠性等方面都得到了極大的提升。該版本是模擬設(shè)計全流程及數(shù)字設(shè)計驗證EDA工具，整體可以支持28nm工藝制程，但是尚不支持28nm數(shù)字電路的設(shè)計。部分工具可以支持14nm和7nm工藝制程。

　　也就是說對于28nm的工藝制程的模擬芯片設(shè)計，我國已經(jīng)有了全套的設(shè)計工具。假以時日，當(dāng)國產(chǎn)EDA工具能夠支持28nm及更新工藝的數(shù)字芯片設(shè)計時，那么就可以用國產(chǎn)的EDA工具完成CPU設(shè)計，美國也就不能再施加限制。在軟件方面，只要有足夠的投入，進(jìn)步速度肯定比光刻機(jī)這類對精密制造嚴(yán)重依賴的硬件設(shè)備更快，有理由相信能夠支持現(xiàn)代CPU設(shè)計的國產(chǎn)EDA軟件不會讓我們等待很長的時間。

華大九天自主研發(fā)的模擬/數(shù)?；旌显O(shè)計全流程EDA工具系統(tǒng)，成為全球四大模擬EDA全流程系統(tǒng)之一，其中電路仿真工具達(dá)國際先進(jìn)水平，被國外權(quán)威媒體評為“全球最佳電路仿真工具”。中國電子將依托EDA工具系統(tǒng)的持續(xù)升級換代，為我國集成電路產(chǎn)業(yè)的健康發(fā)展起到重要的支撐和保障作用。